
BRMUD
[BRMUD] Recovery Mud Mask 110ml
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Detalles
BRMUD Recovery Mud Mask es un producto de cuidado facial formulado para limpiar en profundidad y revitalizar la piel. Contiene un 30% de polvo de barro de Boryeong, conocido por su alto contenido mineral y su fuerte poder de absorción, que elimina eficazmente el sebo y las impurezas de los poros. Esta mascarilla también incluye ingredientes calmantes como el extracto de centella asiática, el extracto de higo, el aceite de árbol de té y el extracto de hoja de Eclipta Prostrata. Estos componentes ayudan a calmar la piel irritada, aportan beneficios antioxidantes, controlan la grasa y reducen el enrojecimiento. La textura cremosa de la mascarilla facilita su aplicación y no reseca la piel, dejándola limpia e hidratada tras su uso. Ha superado pruebas para pieles sensibles, por lo que es apta para pieles delicadas y sensibles. El uso regular de BRMUD Recovery Mud Mask ayuda a minimizar los poros, mejorar la textura de la piel y favorecer un cutis más claro y luminoso.
Modo de empleo
1. Después de lavarte la cara, retira el exceso de agua. 2. Toma una cantidad adecuada con una brocha o con la mano y aplícala hasta que no se vea la superficie de la piel. 3. Deja secar por completo durante 15-20 minutos, haz un masaje suave con las manos y retírala a fondo con agua tibia.
Ingredientes
Purified water, cisilt (30%), glycerin, dipropylene glycol, bentonite (4%), kaolin (4%), betaine, 1,2-hexanediol, bottleweed extract, fig extract, kelp extract, Hanyeoncho leaf extract, Trurose of Yerico extract, mother and child extract, toad extract, toad extract, hostile leaf oil, hydrogene lecithin, xantan gum, polyacrylate-13, magnesium aluminum silicate, polyglyceryl-10 laurate, ethylhexylpalmitate, sorbitan isosteate, fructooligosaccharide, beta-glucan, hydrolized hyaluronic acid, tocopherol, butylene glycol, ethanol, lecithin, mastic gum, hydroxyacetophenone, mastic gum, hydroxyacetophenone, hydroxyhexylphenone, ethylhexylglyceride, chlorinated hyaluronic acid, beta-glucan, hydroxyacetophenone, ethylhexylglycerin




